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快速熱處理管式爐的應用領域有哪些?

更新時間:2026-09-15      瀏覽次數:59

1. 半導體與光電材料(RTP 經典領域)

- 薄膜快速晶化、離子注入后退火、金屬薄膜合金化;

- 鈣鈦礦、氧化物薄膜、ITO、AZO 透明導電膜短時退火;

- 二維材料(石墨烯、MoS?等)快速熱解、缺陷修復、氣相硫化;

- 硅基小樣、晶片快速氧化、氮化。

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提示:晶圓大面積秒級退火一般選用**紅外燈 RTP 爐**;小型管式快速爐多用于小片試樣、粉體、薄膜小樣研發。

 2. 儲能材料(鋰電、鈉電、固態電池)

- 正極 / 負極前驅體**快速煅燒、脫溶劑、脫膠**;

- 固態電解質粉體快速晶化、缺陷調控;

- 碳基負極材料短時碳化、石墨化預處理;

- 包覆改性,快速在顆粒表面構建保護層;

> 優勢:一天可跑多組配方,加速新材料配方篩選。


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