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氣氛燒結爐的用途

更新時間:2026-05-14      瀏覽次數:447

氣氛類型作用典型應用

N?(氮氣)隔絕氧氣,防止氧化金屬粉末冶金、MLCC電容

Ar(氬氣)惰性保護,最純凈鈦合金、活性金屬、光學材料

H?(氫氣)還原性氣氛,去氧化層鎢鉬燒結、鐵基粉末冶金

真空(<10?3Pa)無氧,脫脂除氣硬質合金、不銹鋼釬焊

O?(氧氣)促進氧化反應透明鐵電陶瓷、部分氧化物燒結

NH?(氨氣)氮化氣氛滲氮處理、氮化硅/氮化鋁燒結

CH? + H?碳勢氣氛滲碳處理(齒輪、軸承表面硬化)

陶瓷材料燒結(占比 ~40%,最大用途)

材料用途氣氛溫度

氧化鋁(Al?O?)電子基板、耐磨件、刀具N?/空氣1400~1600℃

氧化鋯(ZrO?)牙科材料、結構陶瓷空氣1300~1500℃

氮化硅(Si?N?)軸承球、發動機部件N?1600~1800℃

碳化硅(SiC)半導體襯底Ar/真空1800~2100℃

壓電陶瓷(PZT)傳感器、超聲換能器空氣1100~1300℃

軟磁鐵氧體電感磁芯、變壓器空氣1000~1250℃

透明氧化鋁激光窗口、H?1700~1900℃

透明鐵電陶瓷光電窗口O?1200~1400℃

氮化鋁(AlN)散熱基板N?1700~1900℃


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